區(qū)熔硅片

區(qū)熔硅片
產(chǎn)品詳情


Diameter
2"
3"
4"
5"
6"
8"
GradePrime
Growth MethodFZ
Orientation<1-0-0>,<1-1-1>
Type/DopantIntrinsic,P Type/Boron,N Type/Phos
Thichness (um)
279
380525
625675725
Thichness ToleranceStandard ±25um± 50um
Resistivity(Ohm-cm)1000-20000 ,Maximum Capabilities>20000, 1-5 ohm-cm
Surface FinishedP/E,P/P,E/E,G/G
TTV (um)Standard < 10um
Bow/Warp (um)Standard < 40um<50um
Particle<10@0.3um<30@0.5um


區(qū)熔硅片就是通過(guò)區(qū)熔法(Float Zone)長(zhǎng)晶得到區(qū)熔單晶硅棒,然后把單晶硅棒加工成硅片,叫做區(qū)熔硅片。區(qū)熔硅片由于在長(zhǎng)晶的過(guò)程中沒有跟石英坩堝接觸,硅材料處于懸浮狀態(tài),因此長(zhǎng)晶過(guò)程中受污染少。碳含量和氧含量更低,雜質(zhì)更少,電阻率更高,適用于功率器件和某些耐高壓電子器件的制造。
區(qū)熔硅片在長(zhǎng)晶過(guò)程中,通常不會(huì)像直拉法那樣摻入雜質(zhì)元素硼(Boron)或者磷(Phos),因此區(qū)熔硅片大多是本征型,不摻雜的高阻片,電阻率大于>1000歐姆-厘米。但是某些情況下,也可以通過(guò)NTD中照和GD氣摻來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)區(qū)熔硅棒的摻雜,以達(dá)到均勻性更好和更低的電阻率。

供應(yīng)產(chǎn)品
區(qū)熔硅片
化合物半導(dǎo)體
外延片
氧化片
單晶硅棒
直拉硅片
聯(lián) 系 我 們
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